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化学湿法清洗台（Wet Bench）

IVY半导体设备制造开发有限公司多年来致力于半导体湿法制程和黄光工艺相关设备的开发和制造。

	提供晶圆湿法清洗制程所需之显影，蚀刻，湿法去胶，晶圆清洗，晶圆烘干多功能湿法清洗机器。
	可编程PLC全程控制PROCESS加热，震荡，N2 BUBLE 清洗方式。
	操作简便，维护成本低。