原子层沉积(ALD)非常适合在各种应用中快速、低温沉积超精密涂层：OLED研发和OLED on Silicon生产,MEMS和特种半导体,光电研发,先进的光学元件,柔性和印刷电子产品,特殊半导体和TFT的高k值工艺。

1.基板尺寸可达200mm*200mm

2.可独立运行或集成真空集群(MESC)

3.全自动操作。

4.一台设备可同时配置多达五种金属前体和五种氧化剂

5.可选择臭氧，PEALD和等离子预清洁等功能。